淺談原子吸收光譜儀分析中的干擾效應(yīng)

　　淺談原子吸收光譜儀分析中的干擾效應(yīng)
　　原子吸收光譜儀可測定多種元素，火焰原子吸收光譜法可測到10-9g/mL數(shù)量級，石墨爐原子吸收法可測到10-13g/mL數(shù)量級。其氫化物發(fā)生器可對8種揮發(fā)性元素汞、砷、鉛、硒、錫、碲、銻、鍺等進行微痕量測定。
　　原子吸收光譜分析中，干擾效應(yīng)按其性質(zhì)和產(chǎn)生的原因，可以分為四類：1、物理干擾2、化學(xué)干擾3、電離干擾4、光譜干擾
　　配制與被測試樣相似組成的標(biāo)準樣品，是消除物理干擾常用的方法。在不知道試樣組成或無法匹配試樣時，可采用標(biāo)準加入法或稀釋法來減小和消除物理干擾。
　　2.化學(xué)干擾
　　化學(xué)干擾是由于液相或氣相中被測元素的原子與干擾物質(zhì)組分之間形成熱力學(xué)更穩(wěn)定的化合物，從而影響被測元素化合物的解離及其原子化。磷酸根對鈣的干擾，硅、鈦形成難解離的氧化物、鎢、硼、希土元素等生成難解離的碳化物，從而使有關(guān)元素不能有效原子化，都是化學(xué)干擾的例子?；瘜W(xué)干擾是一種選擇性干擾。
　　在高溫下原子電離，使基態(tài)原子的濃度減少，引起原子吸收信號降低，此種干擾稱為電離干擾。電離效應(yīng)隨溫度升高、電離平衡常數(shù)增大而增大，隨被測元素濃度增高而減小。
　　加入更易電離的堿金屬元素，可以有效地消除電離干擾。
　　光譜干擾包括譜線重疊、光譜通帶內(nèi)存在非吸收線、原子化池內(nèi)的直流發(fā)射、分子吸收、光散射等。當(dāng)采用銳線光源和交流調(diào)制技術(shù)時，前三種因素一般可以不予考慮，主要考慮分子吸收和光散射的影響，它們是形成光譜背景的主要因素。
　　二、分子吸收和光散射的影響
　　分子吸收干擾是指在原子化過程中生成的氣體分子、氧化物及鹽類分子對輻射吸收而引起的干擾，圖3.10示出了鈉的鹵化物分子的吸收譜帶。光散射是指在原子化過程中產(chǎn)生的固體微粒對光產(chǎn)生散射，使被散射的光偏離光路而不為檢
　　三、測器所檢測，導(dǎo)致吸光度值偏高
　　光譜背景除了波長特征之外，還有時間、空間分布特征。分子吸收通常先于原子吸收信號之前產(chǎn)生，當(dāng)有快速響應(yīng)電路和記錄裝置時，可以從時間上分辨分子吸收和原子吸收信號。樣品蒸氣在石墨爐內(nèi)分布的不均勻性，導(dǎo)致了背景吸收空間分布的不均勻性。提高溫度使單位時間內(nèi)蒸發(fā)出的背景物的濃度增加，同時也使分子解離增加。這兩個因素共同制約著背景吸收。在恒溫爐中，提高溫度和升溫速率，使分子吸收明顯下降。
　　在石墨爐原子吸收法中，背景吸收的影響比火焰原子吸收法嚴重，若不扣除背景，有時根本無法進行測定。